パターン形成プロセスの管理方法及び管理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井桁貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002207394
Publication number (International publication number)：2004053683
Application date： Jul. 16, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】パターン形成プロセスの管理方法及び管理装置に関し、パターン面積を管理指標として用いることによりパターン形成プロセスの管理を定量的且つ高精度で行うことを目的とする。【解決手段】マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整することを特徴とするパターン形成プロセスの管理方法。

IPC (2)：

G03F1/08 , H01L21/027

FI (2)：

G03F1/08 A , H01L21/30 502W

F-Term (3)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BB36

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

マスクパターンデータ検査装置、及びマスクパターンデータ最適設計装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-140302 Applicant：株式会社日立製作所
OPCマスク欠陥修正方法及び欠陥修正装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-239981 Applicant：凸版印刷株式会社
レチクル外観検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-112702 Applicant：日本電気株式会社

Show all

Return to Previous Page