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J-GLOBAL ID：200903099410362165

OPCマスク欠陥修正方法及び欠陥修正装置

Inventor：
福島 祐一

About 福島 祐一


Applicant, Patent owner：
凸版印刷株式会社

About 凸版印刷株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999239981
Publication number (International publication number)：2001066759
Application date： Aug. 26, 1999
Publication date： Mar. 16, 2001
Summary：
【要約】【課題】OPCマスクの欠陥修正方法において、OPCマスク欠陥に対する修正形状を最適化し、かつ良否判定を正確に行うことのできるOPCマスク欠陥修正方法および欠陥修正装置を提供する。【解決手段】OPCパターンの欠陥部分を含むパターン領域の画像データを用いて所定条件で光強度分布シミュレーションすることにより、該OPCマスクに最適化したOPCパターンの修正形状を算出し、その形状に従ってパターン修正することを特徴とする。
Claim (excerpt)：
OPCマスクの欠陥修正方法において、OPCパターンの欠陥部分を含むパターン領域の画像データを用いて所定条件で光強度分布シミュレーションすることにより、該OPCマスクに最適化したOPCパターンの修正形状を算出し、その形状に従ってパターン修正することを特徴とする、OPCマスク欠陥修正方法。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 W
F-Term (4)：
2H095BD04 ,  2H095BD26 ,  2H095BD27 ,  2H095BD31
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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