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J-GLOBAL ID:200903023361830976

構造体およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008289658
Publication number (International publication number):2009289730
Application date: Nov. 12, 2008
Publication date: Dec. 10, 2009
Summary:
【課題】異方導電性部材として使用可能な、接合適性と導電性とをあわせもった構造体、および、その製造方法の提供。【解決手段】絶縁性基板に導電体が貫通する構造体であって、該導電体が、円相当径10〜500nmであり、かつ該絶縁性基板表面からの高さが50nm以上の突出部を有するものであり、該突出部の表面が金属によって被覆されており、該突出部を被覆する被覆層を含めた該突出部の高さH(nm)と、該突出部を被覆する被覆層の厚さTと、が(1)式の関係を満たす、構造体。 T/H≦0.8・・・(1)式【選択図】図1
Claim (excerpt):
絶縁性基板に導電体が貫通する構造体であって、 該導電体が、円相当径10〜500nmであり、かつ該絶縁性基板表面からの高さが50nm以上の突出部を有するものであり、 該突出部の表面が金属によって被覆されており、該突出部を被覆する被覆層を含めた該突出部の高さH(nm)と、該被覆層の厚さT(nm)と、が(1)式の関係を満たす、構造体。 T/H≦0.8・・・(1)式
IPC (4):
H01R 11/01 ,  H01B 5/16 ,  H01B 13/00 ,  H01R 43/00
FI (5):
H01R11/01 501G ,  H01B5/16 ,  H01B13/00 501P ,  H01R11/01 501A ,  H01R43/00 H
F-Term (3):
5E051CA04 ,  5G307HA02 ,  5G307HB03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (9)
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