層間配線に多層カーボンナノチューブを用いる配線構造及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004304667
Publication number (International publication number)：2006120730
Application date： Oct. 19, 2004
Publication date： May. 11, 2006
Summary：

【課題】 2以上の導線層の層間配線に多層カーボンナノチューブ(CNT)が使用される配線構造の低抵抗化を図ることの可能な配線構造を得ること。【解決手段】配線構造では、2以上の導電層の層間配線に多層CNTが使用される。前記多層CNTに含まれるグラフェンシートにより形成され、前記多層CNTの成長基点から遠い側の端部に同心状に形成される複数の環状の切り口が、導電層にそれぞれ接触する。CNTのキャップ層の部分を介さずに、導電層とグラフェンシートが接するので、それらの間の接触抵抗は従来よりも小さくなる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

2以上の導電層の層間配線に多層カーボンナノチューブが使用される配線構造であって、前記多層カーボンナノチューブに含まれるグラフェンシートにより形成され且つ前記多層カーボンナノチューブの成長基点から遠い側の端部に同心状に形成される複数の環状の切り口が、導電層にそれぞれ接触することを特徴とする配線構造。

IPC (3)：

H01L 21/320 , H01L 23/52 , H01L 21/768

FI (2)：

H01L21/88 M , H01L21/90 A

F-Term (16)：

5F033HH11 , 5F033JJ00 , 5F033JJ07 , 5F033JJ08 , 5F033JJ11 , 5F033JJ13 , 5F033JJ18 , 5F033JJ20 , 5F033JJ21 , 5F033KK11 , 5F033NN00 , 5F033PP00 , 5F033PP01 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033XX08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

ナノワイヤーおよびその製造方法、並びにそれを用いたナノネットワーク、ナノネットワークの製造方法、炭素構造体、電子デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-270808 Applicant：富士ゼロックス株式会社

Cited by examiner (5)

集積回路装置及び集積回路装置製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-135322 Applicant：富士通株式会社
炭素元素円筒型構造体へのオーミック接続構造及びその作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-078353 Applicant：富士通株式会社
集積回路内の半導体デバイスおよびその構成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-131296 Applicant：テキサスインスツルメンツインコーポレイテッド

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