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J-GLOBAL ID:200903023736807330

複合高分子材料の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001359728
Publication number (International publication number):2003160679
Application date: Nov. 26, 2001
Publication date: Jun. 03, 2003
Summary:
【要約】【課題】 残存するラジカルによる強度劣化や、残留するモノマーの溶出による悪影響のない複合高分子材料の製造方法を提供すること。【解決手段】 高分子材料にラジカルを生成させ、つづいてビニル化合物と接触させることによりグラフト鎖を導入した後、TM-5°C≧T°C≧60°C(TMは高分子材料の結晶融点を表す。)で表される温度(T°C)の熱水処理工程を含む洗浄を行うことを特徴とする複合高分子材料の製造方法。
Claim (excerpt):
高分子材料にラジカルを生成させ、つづいてビニル化合物と接触させることによりグラフト鎖を導入した後、さらに下記式(1)で表される温度(T°C)の熱水処理工程を含む洗浄を行うことを特徴とする複合高分子材料の製造方法。TM-5°C≧T°C≧60°C (1)(式中、TMは高分子材料の結晶融点を表し、Tは熱水処理温度を表す。)
IPC (3):
C08J 7/00 ,  C08J 9/36 ,  C08L101:00
FI (3):
C08J 7/00 A ,  C08J 9/36 ,  C08L101:00
F-Term (27):
4F073AA05 ,  4F073BA06 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA15 ,  4F073BA23 ,  4F073BA24 ,  4F073BA27 ,  4F073BA29 ,  4F073BA34 ,  4F073CA41 ,  4F073EA11 ,  4F073FA01 ,  4F073FA03 ,  4F074AA17 ,  4F074AA24 ,  4F074AA26 ,  4F074AA38 ,  4F074AA57 ,  4F074AA66 ,  4F074AA71 ,  4F074AA77 ,  4F074AA97 ,  4F074CD11 ,  4F074CD17 ,  4F074DA44 ,  4F074DA59
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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