洗浄剤組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997041646
Publication number (International publication number)：1998219279
Application date： Feb. 10, 1997
Publication date： Aug. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】メイク汚れや皮脂汚れに対し高い洗浄性を有し、かつ、皮膚に対して低刺激性である洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】アシル基2長鎖2極性基含有陰イオン界面活性剤と1長鎖1極性基含有陰イオン界面活性剤とHLBが7以上18未満の非イオン界面活性剤を含有させる。

Claim (excerpt)：

(A)アシル基2長鎖2極性基含有陰イオン界面活性剤と、(B)1鎖1極性基含有陰イオン界面活性剤と、(C)HLBが7以上18未満の非イオン界面活性剤を含有せしめたことを特徴とする洗浄剤組成物。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-142998 Applicant：ライオン株式会社
洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-182030 Applicant：ライオン株式会社
洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-172406 Applicant：ライオン株式会社

液体洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-085756 Applicant：ライオン株式会社

液体洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-085757 Applicant：ライオン株式会社

身体用洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-216948 Applicant：花王株式会社

特開平1-287017

特開平3-281699

抗炎症剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-075001 Applicant：丸善製薬株式会社

新規アミド化合物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-118219 Applicant：花王株式会社

両性界面活性剤およびそれを含む洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-212233 Applicant：ローヌ-プランインコーポレイティド

化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-143990 Applicant：鐘紡株式会社

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Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-142998 Applicant：ライオン株式会社
洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-182030 Applicant：ライオン株式会社
洗浄剤組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-172406 Applicant：ライオン株式会社

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