超希薄洗浄液を使用して、ミクロ電子基材を洗浄する方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萼経夫 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000618029
Publication number (International publication number)：2002543976
Application date： May. 12, 2000
Publication date： Dec. 24, 2002
Summary：

【要約】【課題】超希薄洗浄液を使用して、ミクロ電子基材を洗浄する方法を提供する。【解決手段】洗浄液(120) を音波エネルギー(126) と組み合わせて使用して、物品(106) の表面を洗浄する方法。好ましくは、洗浄液を形成するために、超希薄濃度の、アンモニアガスのような洗浄力増加物質を、濾過された脱イオン水のような液体溶媒に溶解する。前記洗浄液を、洗浄すべき前記表面に接触せしめる。このような接触の間、音波エネルギーが前記液に施される。所望により、洗浄すべき前記表面は、洗浄前に、例えばオゾン化された水により、酸化されてよい。

Claim (excerpt)：

液体溶媒中に超希薄濃度のガス状の洗浄力増加物質を溶解して洗浄液を形成し、前記洗浄液を基材の表面に接触せしめ、そして前記洗浄液を前記基材の表面に接触せしめながら、前記洗浄液に音波エネルギーを施す、工程からなる、物品の表面を洗浄する方法。

IPC (5)：

B08B 3/12 , B08B 3/08 , B08B 3/10 , C23G 1/14 , H01L 21/304 642

FI (5)：

B08B 3/12 Z , B08B 3/08 Z , B08B 3/10 Z , C23G 1/14 , H01L 21/304 642 E

F-Term (28)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201BB02 , 3B201BB82 , 3B201BB83 , 3B201BB89 , 3B201BB95 , 3B201BB98 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 4K053PA17 , 4K053QA04 , 4K053QA07 , 4K053RA13 , 4K053RA21 , 4K053RA40 , 4K053RA68 , 4K053SA06 , 4K053SA08 , 4K053SA18 , 4K053SA19 , 4K053TA19 , 4K053XA14 , 4K053XA24 , 4K053XA26 , 4K053XA46 , 4K053YA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平1-136339
特開平4-042530
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-047002 Applicant：株式会社カイジョー

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