電子材料用洗浄水、その製造方法及び電子材料の洗浄方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997197782
Publication number (International publication number)：1999029794
Application date： Jul. 08, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】微粒子により汚染された半導体用シリコーン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料を、使用する薬剤の量が少なく、しかも効率よく高い汚染物除去率で洗浄することができる電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】(1)溶存水素濃度が0.7mg/リットル以上飽和濃度以下であり、pHが6〜12である超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水、(2)超純水を脱気し、ガス透過膜を介して水素ガスを供給するとともに、アルカリを添加することを特徴とする該電子材料用洗浄水の製造方法、及び、(3)微粒子で汚染された電子材料を、該電子材料用洗浄水と超音波を照射しながら接触させることを特徴とする電子材料の洗浄方法。

Claim (excerpt)：

溶存水素濃度が0.7mg/リットル以上飽和濃度以下であり、pHが6〜12である超純水からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (6)：

C11D 7/02 , B01D 19/00 , B01D 53/22 , B08B 3/12 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304

FI (6)：

C11D 7/02 , B01D 19/00 H , B01D 53/22 , B08B 3/12 A , H01L 21/304 341 L , H01L 21/304 341 M

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

ウエット処理方法および処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-184893 Applicant：大見忠弘
電子部品等の洗浄方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-265811 Applicant：日本電気株式会社, オルガノ株式会社
ウエット処理方法及び処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-176502 Applicant：株式会社フロンテック, 大見忠弘

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Cited by examiner (9)

ウエット処理方法および処理装置
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