Pat
J-GLOBAL ID：200903024285923540

口臭発生抑制剤および口臭発生抑制組成物

Inventor：
平山 知子

About 平山 知子

, 
常田 文彦

About 常田 文彦


Applicant, Patent owner：
ライオン株式会社

About ライオン株式会社


Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003416645
Publication number (International publication number)：2005170906
Application date： Dec. 15, 2003
Publication date： Jun. 30, 2005
Summary：
【課題】口臭をマスキングなどの一時的抑制手段によらず、臭気物質の発生を抑制することにより本質的に口臭発生を抑制することのできる口臭発生抑制剤、該口臭発生抑制剤を含有する口臭発生抑制組成物を提供する。【解決手段】アリルメチルスルフィド産生抑制成分を有効成分として用いる。このアリルメチルスルフィド産生抑制成分は、チオール-S-メチルトランスフェラーゼ阻害剤を含有し、このチオール-S-メチルトランスフェラーゼ阻害剤として、好ましくはブルーベリー、ライチ、グアバ、アセロラ、アロニア、ブラックカラント、エルダベリー、ヤナギタデ、ローズヒップの各植物から選択される一種または二種以上の植物または抽出物を用いる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
アリルメチルスルフィド産生抑制成分を含む口臭発生抑制剤。
IPC (3)：
A61K7/26 ,  A23L1/30 ,  C12N9/99
FI (3)：
A61K7/26 ,  A23L1/30 B ,  C12N9/99
F-Term (18)：
4B018LB01 ,  4B018LB08 ,  4B018MD07 ,  4B018MD48 ,  4B018ME14 ,  4B018MF01 ,  4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AC102 ,  4C083AC132 ,  4C083AC432 ,  4C083BB55 ,  4C083CC41 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE34
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 特開昭53-52607号公報
  • 特開昭63-262156号公報
  • 植物成分を含有する消臭剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-359180   Applicant：三栄源エフ・エフ・アイ株式会社
Show all
Cited by examiner (10)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM