ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：服部平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995167868
Publication number (International publication number)：1996339087
Application date： Jun. 12, 1995
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、(C)トリアジン化合物及び(D)一般式化1で表わされるベンゾトリアゾール化合物を含有するネガ型レジスト組成物。(式中、Xは-CH(OH)CH2(OH)、-OH又は-N(R)2を示す。Rは炭素原子数1〜10のアルキル基である。)【効果】透明電導膜基板や金属膜基板に対して密着性がよく、高い残膜率を示すとともに、優れたプロファイル形状のレジストパターンを形成することができ、微細加工化が要求される電子部品材料の製造、特にTFT素子を含む液晶表示素子の製造において好適に使用できる。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、(C)トリアジン化合物及び(D)一般式化1で表わされるベンゾトリアゾール化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】(式中、Xは-CH(OH)CH2(OH)、-OH又は-N(R)2を示す。Rは炭素原子数1〜10のアルキル基である。)

IPC (2)：

G03F 7/085 , G03F 7/038 505

FI (2)：

G03F 7/085 , G03F 7/038 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-229442 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ネガ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-198817 Applicant：東京応化工業株式会社
ネガ型放射線感応性レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-282824 Applicant：東京応化工業株式会社

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