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J-GLOBAL ID:200903024390397366
感放射線性組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 曉司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994172664
Publication number (International publication number):1996036262
Application date: Jul. 25, 1994
Publication date: Feb. 06, 1996
Summary:
【要約】【目的】 保存安定性の改良された、ポリビニルフェノール類又はその誘導体を含有する感放射線性組成物を提供する。【構成】 ビニルフェノール類を構成単位成分として含有するポリビニルフェノール類又はその誘導体及び溶媒を含有する感放射線性組成物において、該溶媒がジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及び/又はジプロピレングリコールジアルキルエーテルを含有することを特徴とする感放射線性組成物。
Claim (excerpt):
ビニルフェノール類を構成単位成分として含有するポリビニルフェノール類又はその誘導体及び溶媒を含有する感放射線性組成物において、該溶媒がジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及び/又はジプロピレングリコールジアルキルエーテルを含有することを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (6):
G03F 7/023 511
, C08K 5/06
, C08L 25/16 LEK
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 515
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-194444
Applicant:三菱化成株式会社
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ネガ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-190059
Applicant:三菱化成株式会社
-
ネガ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-215803
Applicant:三菱化成株式会社
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輻射線感受性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-077198
Applicant:シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-286168
Applicant:東京応化工業株式会社
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