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J-GLOBAL ID：200903024413679860

X線マスクの作製方法

Inventor： 大木 茂久 ,  内山 真吾 ,  松田 維人
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995013825
Publication number (International publication number)：1996203817
Application date： Jan. 31, 1995
Publication date： Aug. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 X線マスクの完成時において所望の位置に正確にパターンが配置された高精度なX線マスクを作製する。【構成】 X線マスク製造に使用する薄膜材料の加工過程で発生する前記薄膜材料の応力が起因して発生するパタン位置の変位量を予め求めておき、X線マスクの完成時においてこれらパタンの位置変位を補償する位置に、全体パタンを構成する個々の部分パタンを配置して前記X線マスク上に所望のパタンを形成する。

Claim (excerpt)：

X線マスク製造に使用する薄膜材料の加工過程で前記薄膜材料の応力が起因して発生するパタン位置の変位量を予め求め、X線マスクの完成時においてこれらパタンの位置変位を補償する位置に、全体パタンを構成する個々の部分パタンを配置して前記X線マスク上に所望のパタンを形成することを特徴とするX線マスクの作製方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• X線露光用マスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-139382   Applicant：富士通株式会社
• 特開平3-116716
  
• 転写マスクの形成方法及びその方法に用いる電子線描画装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-189445   Applicant：沖電気工業株式会社
• X線露光用マスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-047876   Applicant：凸版印刷株式会社
• 特開平3-116716