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J-GLOBAL ID：200903024426816964

マイクロ波プラズマ発生装置

Inventor：
田辺 英二

About 田辺 英二


Applicant, Patent owner：
株式会社エー・イー・ティー・ジャパン

About 株式会社エー・イー・ティー・ジャパン


Agent (1)： 井ノ口 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002339098
Publication number (International publication number)：2004172044
Application date： Nov. 22, 2002
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：
【課題】大気圧(またはそれに近い気圧)で動作する低温のプラズマを安定して、しかも小形の装置で発生させることができるマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】本発明によるマイクロ波プラズマ発生装置は、大気圧に近いガスをマイクロ波で励起させプラズマガスを発生するマイクロ波プラズマ発生装置である。同軸形共振キャビティ102は、キャビティの長さが励振波長の1/2の整数倍であり、中心導体205,208を前記長さより短くし、前記中心導体205,208の中心にそってガス流路用の非金属パイプ103を配置し、一方端から注入されたガスが前記非金属パイプが前記中心導体で覆われていないギャップでマイクロ波により励起され他方端からプラズマ化して放出する。前記キャビティはマイクロ波供給回路で励振される。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
大気圧に近いガスをマイクロ波で励起させプラズマガスを発生するマイクロ波プラズマ発生装置であって、 キャビティの長さが励振波長の1/2の整数倍であり、中心導体を前記長さより短くし、前記中心導体中心にそってガス流路用の非金属パイプを配置し、一方端から注入されたガスが、前記非金属パイプが前記中心導体で覆われていないギャップGで、マイクロ波により励起され他方端からプラズマ化して放出されるようにした同軸形共振キャビティと、および 前記キャビティを励振するマイクロ波供給回路と、 から構成したマイクロ波プラズマ発生装置。
IPC (2)：
H05H1/30 ,  H05B7/18
FI (2)：
H05H1/30 ,  H05B7/18 E
F-Term (8)：
3K084AA07 ,  4G075AA22 ,  4G075BB10 ,  4G075BC06 ,  4G075CA26 ,  4G075CA48 ,  4G075DA01 ,  4G075FB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
  • プラズマ生成装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-174356   Applicant：三菱重工業株式会社
  • プラズマ発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-180007   Applicant：大槻義彦
  • マイクロ波プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-131342   Applicant：株式会社ダイヘン
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Cited by examiner (7)
  • プラズマ生成装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-174356   Applicant：三菱重工業株式会社
  • プラズマ発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-180007   Applicant：大槻義彦
  • マイクロ波プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-131342   Applicant：株式会社ダイヘン
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