柱状カーボン構造物の選択成長方法及び電子デバイス

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：眞鍋潔 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002074254
Publication number (International publication number)：2003273112
Application date： Mar. 18, 2002
Publication date： Sep. 26, 2003
Summary：

【要約】【課題】柱状カーボン構造物の選択成長方法及び電子デバイスに関し、必要とする箇所のみに選択的にカーボンナノチューブ等の柱状カーボン構造物を形成する。【解決手段】耐拡散膜パターン4を設けた基板1全面に触媒金属5を堆積したのち、熱処理を行うことにより前記耐拡散膜パターン4以外の領域に存在する触媒金属5のみを深さ方向に拡散させ、次いで、前記耐拡散膜パターン4上に拡散せずに残った触媒金属5を起点に柱状カーボン構造物6を選択的に成長させる。

Claim (excerpt)：

耐拡散膜パターンを設けた基板全面に触媒金属を堆積したのち、熱処理を行うことにより前記耐拡散膜パターン以外の領域に存在する触媒金属のみを深さ方向に拡散させ、次いで、前記耐拡散膜パターン上に拡散せずに残った触媒金属を起点に柱状カーボン構造物を選択的に成長させることを特徴とする柱状カーボン構造物の選択成長方法。

IPC (5)：

H01L 21/3205 , C01B 31/02 101 , H01L 21/28 301 , H01L 21/285 , H01L 21/768

FI (5)：

C01B 31/02 101 F , H01L 21/28 301 Z , H01L 21/285 C , H01L 21/88 M , H01L 21/90 A

F-Term (32)：

4G046CA02 , 4G046CB03 , 4G046CC06 , 4G046CC08 , 4M104BB14 , 4M104BB36 , 4M104DD21 , 4M104DD29 , 4M104DD43 , 4M104DD46 , 5F033HH11 , 5F033JJ00 , 5F033KK07 , 5F033KK11 , 5F033KK17 , 5F033KK18 , 5F033KK21 , 5F033KK35 , 5F033NN19 , 5F033PP02 , 5F033PP07 , 5F033PP08 , 5F033PP15 , 5F033QQ41 , 5F033QQ59 , 5F033QQ62 , 5F033QQ73 , 5F033QQ79 , 5F033QQ89 , 5F033RR03 , 5F033RR21 , 5F033SS21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

カーボンナノチューブの製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-008461 Applicant：キヤノン株式会社
カーボンナノチューブデバイスおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-305512 Applicant：キヤノン株式会社
カーボン繊維とその保持体からなる構造物及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-093365 Applicant：株式会社東芝

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