感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999109443
Publication number (International publication number)：2000305268
Application date： Apr. 16, 1999
Publication date： Nov. 02, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物を用いたレリーフパターンの製造法、該レリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。【解決手段】(a)一般式(I)(式中、Uは4価の有機基を示し、Vは2価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するアルカリ水溶液可溶性のポリアミド、光により酸を発生する化合物、並びに、メチロール基とフェノール性水酸基とを有する化合物、アミノ基とフェノール性水酸基とを有する化合物、2つの芳香環が単結合又は2価の基(但し、メチレン基及びアルキリデン基を除く)を介して結合した構造を有し、かつ、前記芳香環の少なくとも1つはフェノール性水酸基を有する化合物、及び、3つ以上の芳香環を有し、かつ、前記芳香環の少なくとも1つはフェノール性水酸基を有する化合物から選択されるフェノール性水酸基を示す。

Claim (excerpt)：

(a)一般式(I)【化1】(式中、Uは4価の有機基を示し、Vは2価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するアルカリ水溶液可溶性のポリアミド、(b)光により酸を発生する化合物、並びに、(c)メチロール基とフェノール性水酸基とを有する化合物(c1)、アミノ基とフェノール性水酸基とを有する化合物(c2)、2つの芳香環が単結合又は2価の基(但し、メチレン基及びアルキリデン基を除く)を介して結合した構造を有し、かつ、前記芳香環の少なくとも1つはフェノール性水酸基を有する化合物(c3)、及び、3つ以上の芳香環を有し、かつ、前記芳香環の少なくとも1つはフェノール性水酸基を有する化合物(c4)から選択されるフェノール性水酸基を有する化合物を含有してなる感光性重合体組成物。

IPC (8)：

G03F 7/037 501 , C08G 73/22 , C08K 5/00 , C08K 5/13 , C08L 79/04 , G03F 7/004 503 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/037 501 , C08G 73/22 , C08K 5/00 , C08K 5/13 , C08L 79/04 B , G03F 7/004 503 Z , G03F 7/40 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (99)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA10 , 2H025AA20 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025CB25 , 2H025CB26 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 2H096AA27 , 2H096BA09 , 2H096EA02 , 2H096GA08 , 2H096HA01 , 4J002CM031 , 4J002EA048 , 4J002EB118 , 4J002ED058 , 4J002EE038 , 4J002EJ017 , 4J002EJ037 , 4J002EJ047 , 4J002EJ057 , 4J002EJ067 , 4J002EN138 , 4J002EQ018 , 4J002EQ036 , 4J002ET018 , 4J002EV227 , 4J002EV246 , 4J002EV248 , 4J002EV286 , 4J002EV298 , 4J002EW178 , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002FD208 , 4J002GJ02 , 4J002GP03 , 4J002GQ05 , 4J043QB23 , 4J043QB52 , 4J043RA52 , 4J043SA06 , 4J043SA71 , 4J043SB01 , 4J043TA26 , 4J043TA42 , 4J043TA45 , 4J043TA47 , 4J043TA66 , 4J043TB01 , 4J043UA022 , 4J043UA032 , 4J043UA042 , 4J043UA121 , 4J043UA122 , 4J043UA131 , 4J043UA132 , 4J043UA141 , 4J043UA151 , 4J043UA152 , 4J043UA261 , 4J043UA262 , 4J043UB011 , 4J043UB021 , 4J043UB022 , 4J043UB061 , 4J043UB062 , 4J043UB121 , 4J043UB122 , 4J043UB281 , 4J043UB301 , 4J043UB302 , 4J043UB312 , 4J043VA012 , 4J043VA021 , 4J043VA022 , 4J043VA041 , 4J043VA042 , 4J043VA052 , 4J043VA061 , 4J043VA081 , 4J043VA082 , 4J043XA03 , 4J043XA36 , 4J043XB27 , 4J043XB28 , 4J043ZA12 , 4J043ZA60 , 4J043ZB02 , 4J043ZB50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-163076 Applicant：住友ベークライト株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-206158 Applicant：住友ベークライト株式会社
ポジ型フオトレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-229236 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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