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J-GLOBAL ID：200903024759895950
露光用マスク及び半導体装置の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996331971
Publication number (International publication number)：1998171095
Application date： Dec. 12, 1996
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：
【要約】【課題】走査型投影露光装置により回路パターンの転写を行った際の露光異常を確実に検出する。【解決手段】走査型投影露光装置の操作方向に対し平行な方向に、微細な孤立したドットパターン2を千鳥状に配置した矩形状のチェックパターンを有するマスクを用いて露光し、パターン形成する。孤立したドットパターンは焦点ズレ等のプロセス条件の変動に対して敏感にパターン形状の劣化を起こすので、検査工程において容易に露光異常を検出しうる。またドット状のチェックパターンは必要とする面積が小さく、チップ面積の増大を妨げる。
Claim (excerpt)：
透明基板上に設けられた回路パターン領域と、この回路パターン領域の周囲に設けられたスクライブ領域とを有する露光用マスクにおいて、前記回路パターン領域と前記スクライプ領域との境界線近傍に千鳥状に配置されたドットパターンからなる矩形状の複数のチェックパターンを設けたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 502 V
Cited by examiner (7)
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