新規な芳香族スルホニウム塩化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光学的立体造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：本多一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005042020
Publication number (International publication number)：2005263796
Application date： Feb. 18, 2005
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：

【課題】光源からの光を効率的に吸収し、迅速で良質な硬化物を与える良好な光重合開始剤として有用な新規化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含有する光重合性組成物を提供する。酸素による硬化阻害が起こらず、硬化時の精度が良く、容易に所望の寸法の造形物を得ることができ、しかも照射エネルギーに対して高感度で、硬化深度が十分である、光学的立体造形用樹脂組成物およびこれを用いた光学的立体造形方法を提供する。【解決手段】新規な芳香族スルホニウム塩化合物は、下記一般式(I)、で表される。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)、

IPC (5)：

C07D333/76 , C08F2/50 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/029

FI (6)：

C07D333/76 , C08F2/50 , C09K3/00 Z , G03F7/004 501 , G03F7/004 503A , G03F7/029

F-Term (13)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB14 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC23 , 2H025BD03 , 2H025BD04 , 2H025BH05 , 2H025FA12 , 2H025FA39 , 4J011SA83

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

新規な芳香族スルホニウム化合物、これからなる光酸発生剤およびこれを含む光重合性組成物、光造形用樹脂組成物ならびに光学的立体造形法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-291898 Applicant：旭電化工業株式会社

Cited by examiner (5)

新規オニウム塩、光重合開始剤、これを含有するエネルギー線硬化性組成物及びその硬化物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-106808 Applicant：日本化薬株式会社
光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-111116 Applicant：旭電化工業株式会社
光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-099536 Applicant：旭電化工業株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

J. Photochem. Photobiol. A: Chemistry, 2001, 138, 213-226
Phosphorus, Sulfur, and Silicon, 1994, 95-96, 447-448
Chem. Pharm. Bull., 1974, 22, 2030-2041

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