Pat
J-GLOBAL ID:200903025145596210

排水処理装置及び排水処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 羽片 和夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006122364
Publication number (International publication number):2007289891
Application date: Apr. 26, 2006
Publication date: Nov. 08, 2007
Summary:
【課題】曝気槽内を高い活性汚泥濃度に維持することができる排水処理装置及び方法を提供する。【解決手段】排水処理装置は、担体が投入され被処理水を処理する曝気槽と、曝気槽に設けられ剛性を有する散気筒11とを備えている。この散気筒11は、その外表面に弾性を有する散気膜12が設けられており、当該散気膜12を介して被処理水中に微細な気泡を散気して曝気する。このように、弾性を有する散気膜12が剛性を有する散気筒11の外表面に設けられているため、担体は、散気膜12を介して散気筒11に接触することになり、よって、担体の磨耗や損傷を散気膜12の弾性でもって抑止させることができ、曝気槽内に多量の微生物を保持させることが可能となる。【選択図】図3
Claim (excerpt):
微生物固定化担体が投入され、被処理水を処理する曝気槽と、 前記曝気槽内に設けられ、剛性を有する散気筒と、 前記散気筒の外表面に設けられ、弾性を有する散気膜と、を備え、 前記散気筒は、前記散気膜を介して前記被処理水を曝気することを特徴とする排水処理装置。
IPC (4):
C02F 3/20 ,  C02F 3/08 ,  B01F 1/00 ,  C02F 3/34
FI (4):
C02F3/20 D ,  C02F3/08 B ,  B01F1/00 A ,  C02F3/34 101B
F-Term (21):
4D003AA12 ,  4D003AB04 ,  4D003BA02 ,  4D003CA08 ,  4D003DA11 ,  4D003DA19 ,  4D003DA30 ,  4D003EA15 ,  4D003EA26 ,  4D003EA28 ,  4D029AA01 ,  4D029AB07 ,  4D029DD03 ,  4D040BB02 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82 ,  4G035AA01 ,  4G035AB07 ,  4G035AC26 ,  4G035AE17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 旋回流曝気装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-105926   Applicant:日立プラント建設株式会社
Cited by examiner (9)
  • 旋回流曝気装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-105926   Applicant:日立プラント建設株式会社
  • 特開平2-086894
  • エアレーション装置
    Gazette classification:公表公報   Application number:特願平7-516457   Applicant:オット,リタ
Show all

Return to Previous Page