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J-GLOBAL ID：200903025303808327
多孔性シリカ薄膜型光記録材料とその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
筒井 知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004047225
Publication number (International publication number)：2005241673
Application date： Feb. 24, 2004
Publication date： Sep. 08, 2005
Summary：
【課題】 多孔性シリカ薄膜の内部空間を利用する光記録材料を提供する。【解決手段】 ナノメートルサイズの規則構造を有する多孔性シリカの内部に、L体もしくはD体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、およびフォトクロミック化合物が含有されている複合構造体の薄膜から構成される光記録材料による。この複合構造体薄膜は、前記界面活性物質およびフォトクロミック化合物を含有するゾルゲル反応溶液をゾルゲル反応に供した後、薄膜化することによって製造される。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
ナノメートルサイズの規則構造を有する多孔性シリカの内部に、L体もしくはD体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、およびフォトクロミック化合物が含有されている複合構造体の薄膜から構成されていることを特徴とする光記録材料。
IPC (2)：
FI (3)：
G03C1/73 503
, G11B7/24 516
, G11B7/24 522E
2H123AA00
, 2H123AA54
, 2H123AA60
, 2H123BA00
, 5D029JA04
, 5D029JB04
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (2)
-
光メモリー材料およびその製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-246146
Applicant：富士ゼロックス株式会社
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有機薄膜の製造方法及びそれを用いた光記録媒体
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2002-110548
Applicant：株式会社リコー
Article cited by the Patent：
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