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J-GLOBAL ID：200903025339872480

抗菌性低刺激化粧料

Inventor：
寺井 慎

About 寺井 慎


Applicant, Patent owner：
株式会社ノエビア

About 株式会社ノエビア


Agent (1)： 竹井 増美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996090483
Publication number (International publication number)：1997255517
Application date： Mar. 19, 1996
Publication date： Sep. 30, 1997
Summary：
【要約】【課題】 有効な抗菌作用を示し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけでなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【解決手段】 2-フェノキシエタノールと、イチョウ,クマザサ,ウスバサイシン等をはじめとする、抗菌活性を有する植物の抽出物より選んだ1種又は2種以上とを含有して成る。2-フェノキシエタノール及び植物抽出物の配合量は、それぞれ0.05〜1.0重量%、0.01〜20.0重量%が適当である。植物抽出物との併用により抗菌活性が相乗的に増強されるので、2-フェノキシエタノール0.2重量%程度の配合で十分な抗菌作用を発揮させることができ、皮膚に対する刺激性や使用時の不快感を緩和することができる。
Claim (excerpt)：
2-フェノキシタノールと、抗菌作用を有する植物抽出物の1種又は2種以上を含有することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (5)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/48
FI (7)：
A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/02 Z ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/48
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • 抗菌性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-126358   Applicant：鈴木正人
  • 紫外線吸収性皮膚化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-284017   Applicant：株式会社資生堂, 日本新薬株式会社
  • 紫外線防止化粧品組成物及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-319297   Applicant：東海産業株式会社
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