ポリシロキサンとその製造方法および感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001111786
Publication number (International publication number)：2002308990
Application date： Apr. 10, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 193nm以下の波長において透明性が高く、高感度であり、かつドライエッチング耐性、現像性、基板への接着性等にも優れた感放射線性樹脂組成物を与えるポリシロキサン、該ポリシロキサンの製造方法、および該ポリシロキサンを含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】ポリシロキサンは、その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有ポリシロキサンであって、Mw/Mn比が2.5以下であることを特徴とする。該ポリシロキサンは、原料シラン化合物を酸性触媒の存在下で重縮合させる工程を有する方法により製造される。

Claim (excerpt)：

その酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有ポリシロキサンであって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量と数平均分子量との比が2.5以下であることを特徴とするポリシロキサン。

IPC (6)：

C08G 77/14 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

FI (6)：

C08G 77/14 , C08K 5/00 , C08L 83/06 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , H01L 21/30 502 R

F-Term (42)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA06 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB33 , 2H025CB41 , 2H025CB56 , 4J002CP051 , 4J002EN136 , 4J002EV236 , 4J002EV296 , 4J002EW176 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J035AB01 , 4J035BA02 , 4J035BA04 , 4J035BA12 , 4J035BA14 , 4J035CA01N , 4J035CA06N , 4J035CA061 , 4J035CA07N , 4J035CA071 , 4J035CA10N , 4J035CA101 , 4J035CA16N , 4J035EB01 , 4J035EB03 , 4J035EB04 , 4J035EB10 , 4J035LA03 , 4J035LB16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

ケイ素含有ポリマ並びにこれを用いたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-220605 Applicant：富士通株式会社
重合体、レジスト樹脂組成物、及びそれらを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-219539 Applicant：昭和電工株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-070208 Applicant：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社

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