ウエハの欠陥検査装置及び該装置を用いたデバイス製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：社本一夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001010341
Publication number (International publication number)：2002216698
Application date： Jan. 18, 2001
Publication date： Aug. 02, 2002
Summary：

【要約】【課題】欠陥検査時の電子ビーム照射によって生じるウエハ帯電に基づく、画像歪み、ぼやけ等を低減する。【解決手段】参照用電子銃4によってウエハ2に電子ビームが照射され、該照射によって生じるウエハの帯電電位を基板電位測定器8が測定する。基板電位は加速電圧コントローラ7に供給され、該コントローラ7は、基板電位と加速電圧との関係を表す関数テーブルに基づいて、基板電位が0となる加速電圧を設定し、検査用電子銃3及び参照用電子銃4は、加速電圧源5及び6により、この設定された加速電圧で駆動される。これにより、ウエハ8の基板電位は約0Vに保持され、よって、ウエハ8からの2次電子放出係数が約1に保持されるので、2次電子増倍管9、ラインセンサ10、画像処理装置11を介してモニタ装置12に表示される画像の歪み、ぼやけ等が低減される。

Claim (excerpt)：

ウエハ表面の欠陥を検査する欠陥検査装置において、ウエハの検査領域に1次電子ビームを照射する少なくとも1つの電子銃と、該電子銃からの1次電子ビームが照射されたウエハ部分の基板電位を測定する基板電位測定器と、基板電位測定器によって測定された基板電位に基づき、電子銃への加速電圧あるいはウエハへのランディング電圧を変化させることにより、ウエハからの2次電子放出効率を制御して、ウエハの帯電による影響を低減又は相殺させる加速電圧制御コントローラとを備えていることを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (5)：

H01J 37/28 , G01B 15/00 , G01N 23/225 , H01J 37/20 , H01L 21/66

FI (5)：

H01J 37/28 B , G01B 15/00 B , G01N 23/225 , H01J 37/20 H , H01L 21/66 J

F-Term (51)：

2F067AA54 , 2F067AA62 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC16 , 2F067CC17 , 2F067EE04 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL16 , 2F067PP12 , 2F067QQ03 , 2F067QQ11 , 2F067RR24 , 2F067RR30 , 2F067RR35 , 2F067SS13 , 2G001AA03 , 2G001AA10 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001DA02 , 2G001DA08 , 2G001FA01 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001GA09 , 2G001GA12 , 2G001HA02 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB05 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 5C001AA08 , 5C001BB07 , 5C001CC04 , 5C033UU02 , 5C033UU03 , 5C033UU04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

走査型電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-273257 Applicant：株式会社日立製作所
走査型電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-012845 Applicant：株式会社東芝
電位測定方法及びその装置並びに導通検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-091062 Applicant：株式会社日立製作所

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Cited by examiner (2)

走査型電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-273257 Applicant：株式会社日立製作所
走査型電子顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-012845 Applicant：株式会社東芝

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