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J-GLOBAL ID：200903025647289957

プラズマ放電処理水生成装置、並びにプラズマ放電水、植物成長促進液、化粧用水、工業用オゾン洗浄水、医療用オゾン殺菌水及び医療用オゾン治療水

Inventor：
田丸 滋

About 田丸 滋

, 
細川 亨

About 細川 亨

, 
草薙 由美

About 草薙 由美


Applicant, Patent owner：
株式会社スタイ・ラボ

About 株式会社スタイ・ラボ


Agent (2)： 落合 健 ,  仁木 一明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005112236
Publication number (International publication number)：2006289236
Application date： Apr. 08, 2005
Publication date： Oct. 26, 2006
Summary：
【課題】 生成後、水中にオゾンを高い濃度のまま長期に亘って溶解させておくことができて、長期の保存に適したオゾン水が得られるようにし、これにより、生成装置をオゾン水の使用現場近くに設置する必要を無くして、利便性や量産性を高める。【解決手段】 プラズマ放電処理水生成装置は、水を貯留した水槽Vと、この水槽の水面上の空中に配設される放電用の陽電極Pと、この水槽の水中に少なくとも一部を臨ませた陰電極Mと、その陰電極Mより水中に電子を過度に放出させて陽電極Pと水面との間でプラズマ放電を生じさせ得るように該陽電極Pと陰電極Mとの間で高電圧放電を行うための高電圧放電手段Eとを備え、前記プラズマ放電により、そのプラズマ放電前の状態よりもオゾン濃度が高いプラズマ放電処理水が水槽内で得られるようにしている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水を貯留した水槽(V)と、この水槽(V)の水面(Wf)上の空中に配設される放電用の陽電極(P)と、この水槽(V)の水中に少なくとも一部を臨ませた陰電極(M)と、その陰電極(M)より水中に電子を過度に放出させて陽電極(P)と水面(Wf)との間でプラズマ放電を生じさせ得るように該陽電極(P)と陰電極(M)との間で高電圧放電を行うための高電圧放電手段(E)とを少なくとも備え、 前記プラズマ放電により、そのプラズマ放電前の状態よりもオゾン濃度が高いプラズマ放電処理水が水槽(V)内で得られるようにしたことを特徴とする、プラズマ放電処理水生成装置。
IPC (8)：
B01F 1/00 ,  A01G 7/04 ,  A61K 8/19 ,  A61K 33/40 ,  A61L 2/18 ,  A61P 31/04 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/78
FI (8)：
B01F1/00 A ,  A01G7/04 Z ,  A61K7/00 B ,  A61K33/40 ,  A61L2/18 ,  A61P31/04 ,  B08B3/08 Z ,  C02F1/78
F-Term (22)：
3B201AA46 ,  3B201BB92 ,  4C058AA12 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ14 ,  4C083AB061 ,  4C083AB062 ,  4C083CC04 ,  4C083FF01 ,  4C086AA01 ,  4C086HA08 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086ZB35 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD04 ,  4G035AA01 ,  4G035AE05 ,  4G035AE19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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