パターン形成方法およびモールド

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006009369
Publication number (International publication number)：2007190734
Application date： Jan. 18, 2006
Publication date： Aug. 02, 2007
Summary：

【課題】ナノインプリント法では、ディスク基板のように中心部に開口部が形成された基板とモールドとの高精度な位置合わせが困難という問題がある。また、機械的接触による位置合わせマーク損傷による位置合わせ不良も問題となる。【解決手段】微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に2箇所以上にする。更に、それぞれのマークの位置情報や形状から破損したマークを同定し、破損したマークを除いてモールドと樹脂膜が塗布された基板との位置合わせを行うことにより解決する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

凹凸形状のパターンが形成されたモールドを樹脂膜が塗布された基板に押し付けて、該凹凸パターンを基板表面に転写するパターン形成方法において、前記モールドは、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円上に2箇所以上有し、前記アライメントマークと基板の円形開口部の端部との相対位置関係よりモールドと基板との位置合わせを行うことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (7)：

B29C 59/02 , G11B 5/84 , B29C 33/42 , B29C 33/38 , B81C 5/00 , H01L 21/027 , B82B 3/00

FI (7)：

B29C59/02 B , G11B5/84 Z , B29C33/42 , B29C33/38 , B81C5/00 , H01L21/30 502D , B82B3/00

F-Term (34)：

4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH38 , 4F202AH79 , 4F202AP11 , 4F202AR12 , 4F202CA09 , 4F202CB01 , 4F202CD07 , 4F202CD23 , 4F202CK43 , 4F209AA36 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AH79 , 4F209AP06 , 4F209AQ01 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PC06 , 4F209PC07 , 4F209PC08 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5D112AA05 , 5D112AA24 , 5D112BA10 , 5D112GA00 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

加工方法、磁気転写方法及び記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-358062 Applicant：株式会社東芝
情報記録担体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-065182 Applicant：セイコーエプソン株式会社
磁気転写装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-141182 Applicant：松下電器産業株式会社

Cited by examiner (2)

微細パターン形成装置、その製造方法、および形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-130608 Applicant：日本電気株式会社
構造体を用いた薄膜パターン製造方法および構造体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-278829 Applicant：ティーディーケイ株式会社

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