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J-GLOBAL ID:200903026088780773

窒素含有排水処理装置および窒素含有排水処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006264331
Publication number (International publication number):2008080269
Application date: Sep. 28, 2006
Publication date: Apr. 10, 2008
Summary:
【課題】微生物の安定化と活性化とを図り、微生物による処理能力を向上できる。【解決手段】硝化層3および脱窒槽4の水深を7m以上に設定し、硝化層3および脱窒槽4の下部には下部導入管14の吐出部を配置している。こうして、硝化層3および脱窒槽4の底部では、微生物に付着していない比較的大きいサイズのマイクロバブルおよびラインミキサー型散気装置28由来の微細空気としてのマイクロバブルが水圧によって収縮して、上記微生物および充填材13に付着し易いサイズになる。その結果、上記マイクロバブルは微生物に付着するのみならず、上記微生物に付着した状態で充填材13にも多く付着して、微生物の活性化(定着化)や安定化に有効となる。こうして、微生物の安定化と活性化とを図り、微生物による窒素含有排水の処理能力を向上させることができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
マイクロナノバブル発生機を有して、導入された水中にマイクロナノバブルを発生させるマイクロナノバブル発生槽と、 導入された微生物汚泥中の微生物に、上記マイクロナノバブル発生槽から導入されたマイクロナノバブル含有水中のマイクロナノバブルを付着させるマイクロナノバブル付着槽と、 7m以上の水深を有すると共に、マイクロナノバブル付着用充填材が充填されており、上記マイクロナノバブル付着槽からの微生物汚泥と外部からの窒素含有排水とが導入されて、上記導入された窒素含有排水に対して硝化処理を行う硝化槽と、 上記硝化槽内に設置されると共に、上端部に上記微生物汚泥および上記窒素含有排水が導入される導入口を有する一方、下部に上記導入口から導入された上記微生物汚泥および上記窒素含有排水を上記硝化槽の最下部に吐出する吐出孔を有する第1下部導入管と、 7m以上の水深を有すると共に、マイクロナノバブル付着用充填材が充填されており、上記硝化槽によって硝化処理が行われた被処理水が導入され、水素供与体が添加されて、上記導入された被処理水に対して脱窒処理を行う脱窒槽と、 上記脱窒槽内に設置されると共に、上端部に上記硝化槽からの被処理水が導入される導入口を有する一方、下部に上記導入口から導入された上記被処理水を上記脱窒槽の最下部に吐出する吐出孔を有する第2下部導入管と、 曝気装置を有すると共に、上記脱窒槽によって脱窒処理が行われた被処理水が導入されて、上記脱窒槽において過剰に添加された上記被処理水中の上記水素供与体を微生物分解する再曝気槽と を備えたことを特徴とする窒素含有排水処理装置。
IPC (6):
C02F 3/34 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/12
FI (11):
C02F3/34 101B ,  B01F3/04 A ,  B01F5/00 D ,  C02F9/00 501B ,  C02F9/00 502D ,  C02F9/00 502P ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 504A ,  C02F1/28 D ,  C02F3/12 V
F-Term (30):
4D024AA04 ,  4D024AB04 ,  4D024BA02 ,  4D024CA01 ,  4D024DB03 ,  4D024DB12 ,  4D024DB15 ,  4D028AB00 ,  4D028BC17 ,  4D028BC24 ,  4D028BD06 ,  4D028BD17 ,  4D040BB02 ,  4D040BB23 ,  4D040BB24 ,  4D040BB42 ,  4D040BB52 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91 ,  4D040BB92 ,  4D040BB93 ,  4D624AA04 ,  4D624AB04 ,  4D624BA02 ,  4D624CA01 ,  4D624DB03 ,  4D624DB12 ,  4D624DB15 ,  4G035AB27 ,  4G035AC09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (9)
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