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J-GLOBAL ID：200903062489647606

排水処理装置および排水処理方法

Inventor：
山嵜 和幸

About 山嵜 和幸

, 
宇田 啓一郎

About 宇田 啓一郎

, 
中條 数美

About 中條 数美


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (2)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005059275
Publication number (International publication number)：2006239584
Application date： Mar. 03, 2005
Publication date： Sep. 14, 2006
Summary：
【課題】 マイクロナノバブルを安定的に発生させることができ、排水処理効率の向上を図れる排水処理装置を提供する。 【解決手段】 この排水処理装置は、界面活性剤添加部を構成する界面活性剤ポンプ8,界面活性剤タンク9によって界面活性剤をマイクロナノバブル反応槽3に添加する。これにより、マイクロナノバブル反応槽3においてマイクロナノバブル発生機4は界面活性剤を含有する被処理水を原水としてマイクロナノバブルを安定して効率よく発生できる。したがって、マイクロナノバブル反応槽に導入された排水をマイクロナノバブルでもって効率よく前処理でき、排水処理効率の向上を図れる上に、この前処理の次工程の排水処理装置14の処理負荷を低減でき、排水処理装置14の規模の縮小化を図れる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
マイクロナノバブル発生機を有するマイクロナノバブル反応槽に排水を導入する工程と、 上記マイクロナノバブル反応槽に界面活性剤を添加する工程とを備えることを特徴とする排水処理方法。
IPC (4)：
C02F 3/22 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  C02F 1/00
FI (6)：
C02F3/22 Z ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 C ,  B01F3/04 E ,  C02F1/00 D ,  C02F1/00 K
F-Term (6)：
4D029AA09 ,  4D029AB01 ,  4D029CC05 ,  4G035AA01 ,  4G035AB16 ,  4G035AB29
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-288963   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-145325   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
Cited by examiner (6)
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Article cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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