位置合わせ方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994231251
Publication number (International publication number)：1996097123
Application date： Sep. 27, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 EGA方式を適用してアライメントを行う際に、跳びショットの影響を少なくする。【構成】 n個(nの初期値はN)のサンプルショットの配列座標を計測し、計測結果を処理して非線形誤差成分の標準偏差の3倍を求め、これを所定の関数で除算して評価値An を算出する。そのサンプルショット中から非線形誤差成分の最も大きなサンプルショットを除去した(n-1)個のサンプルショットについて、非線形誤差成分の標準偏差の3倍より評価値An-1 を求め、以下順次非線形誤差成分の大きなサンプルショットを除去して評価値An-2,An-3,...を算出する。それら評価値の平均値〈An 〉より評価値An が大きい範囲で非線形誤差成分の最も大きなサンプルショットを跳びショットとして除去する。

Claim (excerpt)：

基板上に設定された複数の被加工領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する座標系内の所定の加工位置に対して位置合わせするに際して、前記複数の被加工領域の内、所定個数以上の予め選択されたサンプル領域の前記座標系上における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計計算することによって、前記基板上の前記複数の被加工領域の各々の前記座標系上における配列座標を算出し、該算出された配列座標に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数の被加工領域の各々を前記加工位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の被加工領域の内、予め選択されたN個(Nは4以上の整数)のサンプル領域の前記座標系上での座標位置を計測する第1工程と;前記N個のサンプル領域について、それぞれ前記第1工程で計測された座標位置の設計上の位置からの非線形誤差成分を求め、該複数の非線形誤差成分のばらつきを前記Nの関数で除した評価値を求める第2工程と;順次前記サンプル領域の個数が所定個数になるまで、前記第2工程で最も非線形誤差成分の大きかったサンプル領域を除外して前記第2工程を繰り返すことにより、残されたサンプル領域の個数に対応した評価値を求める第3工程と;前記第2工程及び第3工程で求められた個々の評価値が前記複数の評価値に基づいた所定の閾値より大きい範囲で、前記第2工程で最も非線形誤差成分の大きいサンプル領域を取り除く第4工程と;該第4工程で残されたサンプル領域について前記第1工程で計測された座標位置を統計処理して前記基板上の前記複数の被加工領域の各々の前記座標系上における配列座標を算出する第5工程と;を有することを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 9/00 , H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (19)

位置合わせ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-199725 Applicant：株式会社ニコン
投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-191766 Applicant：株式会社ニコン
特開昭63-232326

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