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J-GLOBAL ID:200903026475659850
水処理方法および水処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人 天城国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004144590
Publication number (International publication number):2005324121
Application date: May. 14, 2004
Publication date: Nov. 24, 2005
Summary:
【課題】 オゾン処理後の処理水の酸化副生成物濃度を捉えることにより、過剰オゾン注入を生じることなく、酸化副生成物の生成を有効に抑制することが出来る水処理方法および水処理装置を提供すること。【解決手段】 オゾン注入後のオゾン処理水中に含まれる酸化副生成物濃度を測定手段2で測定し、これがあらかじめ設定した濃度、もしくは、あらかじめ設定した濃度以下となるようにオゾン注入量制御手段16により、オゾン注入量、もしくは、オゾン注入率を制御することによって、酸化副生成物の生成量を監視し、適切に管理することが出来る。【選択図】図1
Claim (excerpt):
目標とする注入率で原水にオゾンを注入し、処理を行う水処理方法であって、
オゾン注入後における処理水の酸化副生成物濃度を測定し、この測定された酸化副生成物濃度が、予め設定された目標値となるようにオゾン注入率を制御する
ことを特徴とする水処理方法。
IPC (6):
C02F1/78
, G01N21/33
, G01N21/64
, G01N30/88
, G01N31/00
, G01N33/18
FI (6):
C02F1/78
, G01N21/33
, G01N21/64 Z
, G01N30/88 Z
, G01N31/00 D
, G01N33/18 104
F-Term (23):
2G042BA01
, 2G042CB03
, 2G042DA08
, 2G043AA01
, 2G043BA14
, 2G043CA03
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G059AA01
, 2G059BB05
, 2G059CC12
, 2G059EE01
, 2G059EE07
, 2G059HH03
, 4D050AA03
, 4D050AB11
, 4D050BB02
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-282109
Applicant:株式会社東芝
-
臭素イオン含有水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-013456
Applicant:住友重機械工業株式会社
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オゾン処理方法および処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-094430
Applicant:株式会社クボタ
Cited by examiner (2)
-
オゾンによるアンモニアの浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-144209
Applicant:株式会社高岳製作所
-
水の消毒装置およびその制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-291843
Applicant:三菱電機株式会社
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