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J-GLOBAL ID：200903026653066885

ろ過膜の洗浄方法

Inventor：
中島 優一

About 中島 優一


Applicant, Patent owner：
株式会社神鋼環境ソリューション

About 株式会社神鋼環境ソリューション


Agent (1)： 梶 良之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005073768
Publication number (International publication number)：2006255534
Application date： Mar. 15, 2005
Publication date： Sep. 28, 2006
Summary：
【課題】 浸漬型膜分離装置のろ過膜を気液混合液の膜表面流により洗浄する場合に、膜表面への付着物の堆積と目詰まりの進行の防止し、高透過フラックス時での安定運転が可能な、効率的なろ過膜の洗浄方法を提供することである。【解決手段】 水処理槽に浸漬配置される膜分離装置の中空糸膜モジュール6aを、この膜モジュール6aの下部に設けた散気装置からの膜面曝気流により洗浄する場合に、膜差圧上昇を、膜モジュール6aの外表面に付着したケーキ層によるものと、膜孔内壁に付着したゲル層によるものとに分け、膜閉塞モデルを用いてケーキ層による膜差圧上昇速度が最も抑制される膜面最適曝気流量を膜透過フラックス毎に求め、この膜面最適曝気流量を各透過フラックスに対して設定するようにしたのである。それにより、連続運転中の膜差圧上昇を著しく抑制され、高透過フラックス時でも安定した膜分離運転が可能となる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水処理槽に浸漬配置され、被処理水を吸引して固液分離する膜分離装置のろ過膜を、前記ろ過膜の下部に設けた散気装置からの膜面への曝気流により膜差圧上昇速度を抑制するように洗浄するろ過膜の洗浄方法であって、前記膜差圧上昇速度と膜面への曝気流量と膜透過フラックスの関係を求め、膜透過フラックスに対応してろ過膜の外表面に付着したケーキ層による膜差圧上昇速度が抑制される膜面最適曝気流量を供給するようにしたことを特徴とするろ過膜の洗浄方法。
IPC (2)：
B01D 65/02 ,  C02F 1/44
FI (2)：
B01D65/02 520 ,  C02F1/44 B
F-Term (18)：
4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31A ,  4D006JA71 ,  4D006KC03 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KE03P ,  4D006KE06P ,  4D006KE12Q ,  4D006MA01 ,  4D006MB02 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB22 ,  4D006PC51 ,  4D006PC62
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 特公平4-70958号公報
  • 膜分離装置及びその膜洗浄方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-238666   Applicant：住友重機械工業株式会社
  • 特公平4-126528号公報
Cited by examiner (6)
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