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J-GLOBAL ID:200903026752574604

強誘電体膜、強誘電体メモリ、及び圧電素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 井上 一 ,  布施 行夫 ,  大渕 美千栄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004012160
Publication number (International publication number):2005209722
Application date: Jan. 20, 2004
Publication date: Aug. 04, 2005
Summary:
【課題】 信頼性の高い強誘電体デバイスを得ることができる強誘電体膜を提供する。【解決手段】 ABO3で表されるペロブスカイト構造強誘電体からなる強誘電体膜であって、Aサイト添加イオンとしてSi2+、Ge2+、およびSn2+のうち少なくとも1種以上を含み、Bサイト添加イオンとして少なくともNb5+を含む。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
ABO3で表されるペロブスカイト構造強誘電体からなる強誘電体膜であって、 AサイトにAサイト補償イオンとしてSi2+、Ge2+、およびSn2+のうち少なくとも1種以上を含み、 BサイトにBサイト補償イオンとしてNb5+を含むことを特徴とする強誘電体膜。
IPC (7):
H01L41/09 ,  B41J2/045 ,  B41J2/055 ,  C04B35/49 ,  H01B3/12 ,  H01L27/105 ,  H01L41/187
FI (8):
H01L41/08 C ,  C04B35/49 Z ,  H01B3/12 301 ,  H01L27/10 444B ,  H01L27/10 444C ,  H01L27/10 444Z ,  H01L41/18 101D ,  B41J3/04 103A
F-Term (45):
2C057AF93 ,  2C057AP14 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA03 ,  2C057BA14 ,  4G031AA11 ,  4G031AA12 ,  4G031AA14 ,  4G031AA27 ,  4G031AA30 ,  4G031AA31 ,  4G031AA32 ,  4G031BA09 ,  4G031BA10 ,  4G031CA01 ,  4G031CA02 ,  4G031CA08 ,  4G031GA02 ,  4G031GA09 ,  4G031GA11 ,  4G031GA16 ,  4G031GA17 ,  5F083FR01 ,  5F083FR02 ,  5F083GA06 ,  5F083GA21 ,  5F083JA15 ,  5F083JA38 ,  5F083LA12 ,  5F083LA16 ,  5F083NA08 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33 ,  5F083PR34 ,  5G303AA10 ,  5G303AB20 ,  5G303BA03 ,  5G303CA01 ,  5G303CB21 ,  5G303CB25 ,  5G303CB30 ,  5G303CB31 ,  5G303CB35 ,  5G303CB39 ,  5G303CB42
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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