Pat
J-GLOBAL ID：200903026814973543

合成ハイドロタルサイトの合成と使用

Inventor：
フジイ、マサキ

About フジイ、マサキ

, 
キム、セヒュン

About キム、セヒュン

, 
タウンセンド、エドウィン、ビー.、4世

About タウンセンド、エドウィン、ビー.、4世

, 
ギャラハー、ジョージ、アール.、ジュニア.

About ギャラハー、ジョージ、アール.、ジュニア.

, 
ブリマ、トーマス、エス.

About ブリマ、トーマス、エス.


Applicant, Patent owner：
スノコ, インコーポレイテッド(アール アンド エム)

About スノコ, インコーポレイテッド(アール アンド エム)


Agent (3)： 矢口 太郎 ,  大森 純一 ,  山口 康明
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003560020
Publication number (International publication number)：2005515230
Application date： Jan. 08, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：
【課題】 【解決手段】 [M2+1-xM3+x(OH)21x+[An x/n 11H20]xを一般的化学式とし、前記化学式においてM2+が二価カチオンであり、M3+が三価カチオンであり、A°-がC16〜C18酸の直鎖カルボン酸塩と、芳香族酸のカルボン酸塩と、アクリル酸のカルボン酸塩と、メタクリル酸の不飽和カルボン酸塩と、ビニル酢酸の不飽和カルボン酸塩と、C2および窒素、燐、硫黄、ハロゲンのようなヘテロ原子を含むより高級な有機酸のカルボン酸塩とから選択した有機アニオンである合成ハイドロタルサイトを、合成方法および使用方法とともに開示する。
Claim (excerpt)：
以下を一般的化学式とする合成ハイドロタルサイトであって、
IPC (7)：
C07C229/08 ,  C08K3/26 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L25/04 ,  C08L27/06 ,  C08L101/00
FI (7)：
C07C229/08 ,  C08K3/26 ,  C08L23/02 ,  C08L23/06 ,  C08L25/04 ,  C08L27/06 ,  C08L101/00
F-Term (16)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB40 ,  4H006BS10 ,  4H006BU32 ,  4J002BB031 ,  4J002BB041 ,  4J002BB121 ,  4J002BB161 ,  4J002BB211 ,  4J002BC031 ,  4J002BC041 ,  4J002BD031 ,  4J002BD041 ,  4J002DE286 ,  4J002FD016
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM