Pat
J-GLOBAL ID：200903026876585043

プラズマ処理装置

Inventor：
本郷 俊明

About 本郷 俊明


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 亀谷 美明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997194887
Publication number (International publication number)：1999026191
Application date： Jul. 04, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 処理室内に均一な磁界を形成して高密度プラズマの励起を可能とし,かつ分割可能な高周波アンテナを備えたプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 エッチング装置100のアンテナ室108内の誘電体壁104上の略中心部には給電部材154が形成され,給電部材154を中心として略正方形状の高周波アンテナ144が配置される。高周波アンテナ144は,それぞれ略正方形で略同形の第1〜第4分岐アンテナ146,148,150から構成される。第1分岐アンテナ146は,第1結合部146aから給電部材154の略反対方向に展開した後,第1分岐点146bにおいて略反対方向に2分岐する。分岐した第1a及び第1b分岐アンテナ146c,146dは,それぞれが重ならないように略三角形状の軌跡を描きながらその略中心方向に展開する。第1a及び第1b分岐アンテナ146c,146dの終端部には,それぞれ第2及び第3結合部146e,146fが形成される。
Claim (excerpt)：
プラズマ処理室の壁面の少なくとも一部を構成する誘電体壁面の外側に設置され,所定の高周波電力を印加することにより前記プラズマ処理室内にプラズマを励起する如く構成された高周波アンテナを備えたプラズマ処理装置において,前記高周波アンテナは,前記誘電体壁面の略中央部に配された高周波電力の給電点付近において4分岐し;4分岐した各第1,第2,第3及び第4分岐アンテナは前記給電点から周辺部に略等間隔にて四方に展開し;各第1,第2,第3及び第4分岐アンテナは略周辺部の第1a,第1b,第1c及び第1d分岐点においてそれぞれ略反対方向に2分岐し;それぞれ2分岐した各第1a,第1b,第2a,第2b,第3a,第3b,第4a及び第4b分岐アンテナは,それぞれが重ならないように前記誘電体壁面上で展開してから接地点に到達するように構成されていること;を特徴とする,プラズマ処理装置。
IPC (4)：
H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (5)：
H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 A ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM