細孔を有する構造体の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001200895
Publication number (International publication number)：2002241121
Application date： Jul. 02, 2001
Publication date： Aug. 28, 2002
Summary：

【要約】【課題】一軸配向性の細孔構造を有する連続性、均一性の高い細孔を有するシリカメソ構造体の製造方法を提供する。【解決手段】ケイ素と界面活性剤とを含む溶液を、配向規制力を持った基板に接触させる工程と、前記溶液を接触させた前記基板を乾燥することにより、前記溶液に含まれる溶媒を乾燥させる工程とを有する細孔を有する構造体の製造方法。ケイ素アルコキシドを含む界面活性剤溶液を配向規制力を持った基板上に塗布する工程と、該基板を乾燥する工程とを含む細孔を有する構造体の製造方法。

Claim (excerpt)：

細孔を有する構造体の製造方法であって、ケイ素と界面活性剤とを含む溶液を、配向規制力を持った基板に接触させる工程と、前記溶液を接触させた前記基板を乾燥することにより、前記溶液に含まれる溶媒を乾燥させる工程とを有することを特徴とする細孔を有する構造体の製造方法。

IPC (4)：

C01B 33/12 , B41J 2/01 , C01B 37/00 , C01B 39/00

FI (4)：

C01B 33/12 C , C01B 37/00 , C01B 39/00 , B41J 3/04 101 Z

F-Term (26)：

2C056FB01 , 4G072AA25 , 4G072BB04 , 4G072BB07 , 4G072BB09 , 4G072BB11 , 4G072BB15 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072KK17 , 4G072LL03 , 4G072MM01 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072UU11 , 4G072UU15 , 4G073BC02 , 4G073BD11 , 4G073BD18 , 4G073BD23 , 4G073CZ53 , 4G073FB01 , 4G073FD21 , 4G073UA01 , 4G073UA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

ゼオライト結晶膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-254256 Applicant：中部電力株式会社, 日本碍子株式会社
大きな粒子径を有するゼオライトの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-156154 Applicant：触媒化成工業株式会社
メソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-005813 Applicant：キヤノン株式会社