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J-GLOBAL ID：200903027046403755

スペーサー用感放射線性樹脂組成物ならびにスペーサーおよびその形成方法

Inventor：
浜口 仁

About 浜口 仁

, 
杉 龍司

About 杉 龍司

, 
久間 俊平

About 久間 俊平

, 
志保 浩司

About 志保 浩司


Applicant, Patent owner：
JSR株式会社

About JSR株式会社


Agent (3)： 大島 正孝 ,  勝又 秀夫 ,  白石 泰三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007080006
Publication number (International publication number)：2008024915
Application date： Mar. 26, 2007
Publication date： Feb. 07, 2008
Summary：
【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、焼成時の昇華物の発生が抑制され、LCD表示における焼付きが抑制され、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えた、スペーサーの形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物例えばアクリル酸グリシジルと、(メタ)アクリロイルアルキルオキセタンとのそれぞれに由来する重合単位を有するブロックセグメントを少なくとも1つ有する、2以上のブロックセグメントからなるブロック共重合体、重合性不飽和化合物および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)ブロック共重合体 (B)重合性不飽和化合物および (C)感放射線性重合開始剤 を含有し、(A)ブロック共重合体が、2つ以上のブロックセグメントを有し、そのうち少なくとも1つのブロックセグメントが(a1)エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物に由来する重合単位ならびに下記式(I)および(II):
IPC (4)：
C08F 20/20 ,  C08F 297/00 ,  G03F 7/033 ,  G02F 1/133
FI (4)：
C08F20/20 ,  C08F297/00 ,  G03F7/033 ,  G02F1/1339 500
F-Term (40)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC42 ,  2H025BJ10 ,  2H025CA01 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CA35 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB56 ,  2H025FA29 ,  2H089MA04X ,  2H089NA12 ,  2H089NA14 ,  2H089PA01 ,  2H089PA08 ,  2H089QA16 ,  4J026HA11 ,  4J026HA39 ,  4J026HA48 ,  4J026HB11 ,  4J026HB12 ,  4J026HB39 ,  4J026HC11 ,  4J026HC39 ,  4J026HE01 ,  4J026HE04 ,  4J100AL62P ,  4J100AL63P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA02 ,  4J100FA03 ,  4J100FA06 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (5)
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