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J-GLOBAL ID：200903027067783051

浸炭処理制御方法及びその方法を用いた浸炭処理装置

Inventor：
羽木 敏

About 羽木 敏

, 
田村 守淑

About 田村 守淑

, 
奥宮 正洋

About 奥宮 正洋


Applicant, Patent owner：
東邦瓦斯株式会社

About 東邦瓦斯株式会社


Agent (1)： 上野 登
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003132072
Publication number (International publication number)：2004332075
Application date： May. 09, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】減圧下での浸炭処理に際し、適正量の浸炭ガスを浸炭炉内に導入することを可能にすると共に、高品質の浸炭処理製品を安定供給することが可能にする浸炭ガス制御方法及びその方法を用いた浸炭処理装置を提供すること。【解決手段】被浸炭処理材である鋼材Wがセットされる浸炭炉1内に浸炭ガスを導入し、浸炭ガスと鋼材Wとを反応させ炭素を鋼材W中に固溶・拡散させる浸炭処理を行うに際し、浸炭ガスの導入流量、炉内雰囲気ガスの排出流量及び浸炭炉1内の全圧とを計測すると共に炉内雰囲気中の特定ガス種の濃度を濃度センサ8を用いて炉内雰囲気ガスの排出側にて浸炭処理中常時計測し、これらの計測値に基づいて炉内に導入される浸炭ガス流量をリアルタイムで調整制御する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被浸炭処理材が載置される浸炭炉内に炭化水素系ガスを主成分とする浸炭ガスを導入し、この浸炭ガスと前記被浸炭処理材との浸炭反応によって生成する炭素を被浸炭処理材中へ固溶・拡散させることにより被浸炭処理材の浸炭処理を行うに際し、 前記浸炭ガスの導入流量と炉内雰囲気ガスの排出流量と炉内雰囲気ガスの全圧とを計測すると共に炉内雰囲気中の特定ガス種の濃度を炉内雰囲気ガスの排出側にて浸炭処理中常時計測し、これらの計測値に基づいて炉内に導入される浸炭ガス導入流量をリアルタイムで調整制御するようにしたことを特徴とする浸炭処理制御方法。
IPC (3)：
C23C8/22 ,  C21D1/06 ,  C21D1/74
FI (3)：
C23C8/22 ,  C21D1/06 A ,  C21D1/74 K
F-Term (3)：
4K028AA01 ,  4K028AC07 ,  4K028AC08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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