ろ過浄化装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005000020
Publication number (International publication number)：2006187697
Application date： Jan. 04, 2005
Publication date： Jul. 20, 2006
Summary：

【課題】本発明の目的は、特に処理水中に残存するバクテリア等の微生物の残存数を低減可能な、ろ過浄化装置を提供することにある。【解決手段】前記課題を解決するために、原水中のバクテリアを前処理工程にて紫外線や薬剤等で効率よく滅菌し、処理水中のバクテリアの残存数を大幅に低減しかつ、バクテリアの栄養物となるプランクトンや有機物を凝集ろ過処理で処理水中の残存を低減することで、バクテリア増殖による処理水の経時劣化の問題を解決できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被処理流体中の被除去物を凝集、被除去物を化学的に捕捉結合した生成物を生成する生成手段と、前記生成手段により前記生成物のサイズを前記被除物のサイズより大きくし、前記生成物が通過できない目開きを有するろ過手段とを有するろ過浄化装置において、前記生成手段内に前記被処理流体中の被除去物を少なくとも殺菌もしくは酸化処理する処理手段を設けたことを特徴とするろ過浄化装置。

IPC (4)：

B01D 36/00 , C02F 1/32 , C02F 1/52 , C02F 1/72

FI (4)：

B01D36/00 , C02F1/32 , C02F1/52 E , C02F1/72 Z

F-Term (34)：

4D015BA22 , 4D015BA23 , 4D015BB05 , 4D015CA01 , 4D015DA04 , 4D015DA13 , 4D015DA16 , 4D015DA17 , 4D015DA37 , 4D015DB01 , 4D015EA01 , 4D015EA03 , 4D015EA12 , 4D015EA19 , 4D015EA24 , 4D015EA35 , 4D037AA11 , 4D037AB03 , 4D037BA18 , 4D037CA02 , 4D037CA05 , 4D037CA08 , 4D050AA15 , 4D050AB06 , 4D050BB09 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4D050CA07 , 4D050CA13 , 4D050CA15 , 4D050CA16 , 4D066AC08 , 4D066BB22 , 4D066EA09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

膜磁気分離装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-078315 Applicant：株式会社日立製作所

Cited by examiner (5)

廃水中の遊離及び錯体シアン化物、AOX、鉱油、錯生成剤、COD、亜硝酸塩、クロム酸塩の分解、及び金属の分離のための方法と装置
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平5-518932 Applicant：ウルトラ・ジステームス・ゲーエムベーハー・ウーファウ-オキシダチオーン
排水処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-353069 Applicant：ダイセン・メンブレン・システムズ株式会社, 株式会社奥村組
膜磁気分離装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-101193 Applicant：株式会社日立製作所

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