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J-GLOBAL ID:200903027458295647
水素生成装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
五十嵐 孝雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000396548
Publication number (International publication number):2002128506
Application date: Dec. 27, 2000
Publication date: May. 09, 2002
Summary:
【要約】【課題】 積層構造の水素分離機構の強度および信頼性を向上する。【解決手段】 水素の抽出層210,水素分離膜を有する分離層220、改質ガス層230、分離層220の順で3種類の層を繰り返して積層する。各層を多孔質のセラミックスで形成することにより、強度を確保する。改質ガス層、抽出層はそれぞれガスの流れ方向を統一することにより、ガスの供給、排出用の構造を簡素化する。緩衝材を挟んで全体をケーシングで被覆することにより、強度およびシール性を確保する。さらに、分離層220または抽出層210に一酸化炭素をメタン化する触媒を担持し、ピンホール等による一酸化炭素の混入による悪影響を回避する。
Claim (excerpt):
所定の原料から水素を生成する水素生成装置であって、水素ガスを含む混合ガスが流れる多孔質体の混合ガス層と、水素ガスのみを選択的に透過する水素分離層と、前記水素分離層により分離された水素が流れる多孔質体の水素抽出層とを備え、前記各層は、前記混合ガス層と前記水素抽出層との間に前記水素分離層が介在する状態で積層された積層構造を成す水素生成装置。
IPC (6):
C01B 3/56
, B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, C01B 3/38
, H01M 8/04
, H01M 8/06
FI (6):
C01B 3/56 Z
, B01D 53/22
, B01D 71/02 500
, C01B 3/38
, H01M 8/04 J
, H01M 8/06 G
F-Term (29):
4D006GA41
, 4D006HA42
, 4D006JA70A
, 4D006MA06
, 4D006MB04
, 4D006MC02X
, 4D006MC03X
, 4D006NA05
, 4D006NA31
, 4D006PA01
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4G040EA06
, 4G040EB33
, 4G040EC01
, 4G040FA06
, 4G040FB09
, 4G040FC07
, 4G040FE01
, 4G140EA06
, 4G140EB37
, 4G140EC01
, 4G140FA06
, 4G140FB09
, 4G140FC07
, 4G140FE01
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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複合水素分離エレメントおよびモジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-329087
Applicant:ベンドリサーチインコーポレイテッド
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水素分離膜ユニット
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Application number:特願平6-212596
Applicant:三菱重工業株式会社
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Application number:特願平9-289897
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特開平2-126914
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特開昭57-170803
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Application number:特願平5-157854
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Application number:特願平5-330215
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
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熱交換装置及び方法
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Application number:特願平9-508202
Applicant:インペリアルケミカルインダストリーズパブリックリミティドカンパニー
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Applicant:東京瓦斯株式会社, 三菱重工業株式会社
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水素製造装置
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Application number:特願平9-088709
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
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特開昭63-319002
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セラミック膜式合成ガス反応器
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Application number:特願平11-155373
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