基板から皮膜を除去する方法およびそれに用いる組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松本研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001173362
Publication number (International publication number)：2002053985
Application date： Jun. 08, 2001
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】基板表面から1層以上の皮膜を選択的に除去する方法。【解決手段】式HxAF6で表わされる酸またはこの酸の前駆物質を含有する水性組成物で皮膜を処理する。式中、AはSi、Ge、Ti、Zr、AlまたはGaであり、xは1〜6である。酸は多くの場合、H2SiF6である。組成物はリン酸のような追加の酸を1種以上含むこともできる。除去される皮膜は多くの場合、アルミナイド皮膜またはMCrAl(X)型の材料である。基板は通常ポリマーまたは超合金のような金属である。

Claim (excerpt)：

式HxAF6(式中、AはSi、Ge、Ti、Zr、AlおよびGaよりなる群から選択され、xは1〜6である)で表わされる酸またはこの酸の前駆物質を含有する水性組成物に皮膜を接触させる工程を含む、基板の表面から1層以上の皮膜を選択的に除去する方法。

IPC (6)：

C23F 1/28 , C23F 1/00 , C23F 1/20 , F01D 5/28 , F02C 7/00 , C22C 19/00

FI (7)：

C23F 1/28 , C23F 1/00 Z , C23F 1/20 , F01D 5/28 , F02C 7/00 C , F02C 7/00 D , C22C 19/00 L

F-Term (24)：

3G002EA05 , 3G002EA06 , 4K057WA10 , 4K057WA20 , 4K057WB02 , 4K057WB03 , 4K057WB05 , 4K057WB08 , 4K057WE01 , 4K057WE02 , 4K057WE03 , 4K057WE04 , 4K057WE07 , 4K057WE08 , 4K057WE09 , 4K057WE11 , 4K057WE12 , 4K057WE25 , 4K057WF01 , 4K057WF06 , 4K057WG01 , 4K057WG02 , 4K057WG03 , 4K057WG06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ニッケル基超合金製品の補修方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-157269 Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
ニッケル基合金から拡散被膜を除去する方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-157268 Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-046035 Applicant：ソシエテ・ナシオナル・デテユード・エ・ドウ・コンストリユクシオン・ドウ・モトール・ダヴイアシオン“エス.エヌ.ウ.セ.エム.アー.”, ソシエテ・ソシヤタ

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