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J-GLOBAL ID：200903028202363102

放射感応性混合物

Inventor： 増 田 誠 也 ,  ムニラチュナ、パドマナバン ,  工 藤 隆 範 ,  木 下 義 章 ,  末 廣 なつみ ,  野 崎 優 子 ,  岡 崎 博 ,  クラウス、ユルゲン、シベラ
Applicant, Patent owner： ヘキストジャパン株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995080519
Publication number (International publication number)：1995333844
Application date： Apr. 05, 1995
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】 アルカリ水溶液で現像でき、安定した酸の潜像を放射分解性塩基を用いて制御するという新しい発想に基づいた半導体素子製造用の高感度、高解像度の放射線混合物を提供すること。【構成】 必須成分としてa)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b1 )酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、またはb2 )酸により化合物a)と架橋する結合を少なくとも1つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性ヨードニウム化合物を含むことを特徴とする放射感応性混合物。

Claim (excerpt)：

必須成分として、a)水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な結合剤、b1 )酸により開裂し得る結合を少なくとも一つ有する化合物、c)放射により酸を発生する化合物、及びd)塩基性ヨードニウム化合物を含むことを特徴とする、ポジ型放射感応性混合物。

IPC (9)：

G03F 7/029 ,  B01J 39/18 ,  C07C 17/35 ,  C07C 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ポジ型放射感応性混合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-025753   Applicant：ヘキストジャパン株式会社
• 特開平3-153257
  
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-073169   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 増感オニウム塩
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-307616   Applicant：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 特開平3-103854