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J-GLOBAL ID:200903028267188235

銅基材に有益な化学機械的研磨スラリー

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000536803
Publication number (International publication number):2002506915
Application date: Mar. 18, 1999
Publication date: Mar. 05, 2002
Summary:
【要約】酸化剤、錯化剤、研磨材、及び随意の界面活性剤を含有する化学機械的研磨スラリー、並びに化学機械的研磨スラリーを使用して、銅合金、チタン、窒化チタン、タンタル、及び窒化タンタルを含む層を基材から除去する方法。このスラリーは、別個のフィルム形成剤を含有しない。
Claim (excerpt):
研磨材、 少なくとも1種の酸化剤、及び クエン酸、乳酸、酒石酸、マロン酸、コハク酸、シュウ酸、アミノ酸、それらの塩、及びそれらの混合物を含む化合物の群より選択される約0.1〜5.0wt%の錯化剤、を含有する化学機械的研磨スラリーであって、pHが約5〜約9であり、フィルム形成剤を含有しない、化学機械的研磨スラリー。
IPC (3):
C09K 3/14 550 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/306
FI (3):
C09K 3/14 550 Z ,  H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/306 M
F-Term (2):
5F043AA26 ,  5F043DD16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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