感光性組成物及びパターンの形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小田島平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994099139
Publication number (International publication number)：1995146552
Application date： Apr. 14, 1994
Publication date： Jun. 06, 1995
Summary：

【要約】【目的】高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フォトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びこれを用いたパターンの形成方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基及びヒドロキシフェニル基を必須成分として含有する重合体、又はA′)カルボキシル基を必須成分として含有する重合体とA′′)ヒドロキシフェニル基を必須成分として含有する重合体;B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

A)カルボキシル基とヒドロキシフェニル基を含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (5)：

G03F 7/029 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , H01L 21/02 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平1-106038
特開昭55-012995
特開昭48-089003

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