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J-GLOBAL ID：200903028563077988

窒素及びリン含有汚水の処理方法並びに装置

Inventor：
島村 和彰

About 島村 和彰

, 
田中 俊博

About 田中 俊博

, 
荒川 清美

About 荒川 清美

, 
三浦 友紀子

About 三浦 友紀子

, 
片岡 克之

About 片岡 克之


Applicant, Patent owner：
株式会社荏原製作所

About 株式会社荏原製作所


Agent (1)： 小栗 昌平 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001329284
Publication number (International publication number)：2003126888
Application date： Oct. 26, 2001
Publication date： May. 07, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高濃度アンモニア性窒素、リンを含有する汚水から、高効率にリン資源を回収しつつ、窒素を低コストで容易に高除去率で除去する。【解決手段】 アンモニア性窒素及びリンを含有する汚水をアンモニア性窒素とマグネシウムイオンを残留させつつ、リン酸マグネシウムアンモニウムの結晶を生成させる脱リン工程と、前記脱リン工程の流出液を微好気的条件及び/又は間欠曝気条件下で独立栄養性硝化菌及び独立栄養性脱窒素菌の存在下に、更にアンモニア性窒素を残留させつつアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素及び/又は硝酸性窒素とを窒素ガスとして部分的に脱窒素する第1脱窒素工程と、前記第1工程の流出液を結合酸素を利用可能な独立栄養性脱窒素菌群の存在下で、該流出液中のアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素及び/又は硝酸性窒素とを窒素ガスとして脱窒素する第2脱窒素工程で処理する窒素及びリン含有汚水の処理方法、並びに装置。
Claim (excerpt)：
アンモニア性窒素及びリンを含有する汚水を浄化する方法において、前記汚水をアンモニア性窒素とマグネシウムイオンを残留させつつ、リン酸マグネシウムアンモニウムの結晶を生成させる脱リン工程と、前記脱リン工程の流出液を微好気的条件及び/又は間欠曝気条件下で独立栄養性硝化菌及び独立栄養性脱窒素菌の存在下に、更にアンモニア性窒素を残留させつつアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素及び/又は硝酸性窒素とを窒素ガスとして部分的に脱窒素する第1脱窒素工程と、前記第1工程の流出液を結合酸素を利用可能な独立栄養性脱窒素菌群の存在下で、該流出液中のアンモニア性窒素と亜硝酸性窒素及び/又は硝酸性窒素とを窒素ガスとして脱窒素する第2脱窒素工程で処理することを特徴とする窒素及びリン含有汚水の処理方法。
IPC (10)：
C02F 3/34 101 ,  B01D 9/02 601 ,  B01D 9/02 602 ,  B01D 9/02 604 ,  B01D 9/02 608 ,  B01D 9/02 615 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C12M 1/00 ,  C12N 1/20
FI (11)：
C02F 3/34 101 A ,  B01D 9/02 601 C ,  B01D 9/02 602 E ,  B01D 9/02 604 ,  B01D 9/02 608 Z ,  B01D 9/02 615 Z ,  C02F 1/58 J ,  C02F 1/58 P ,  C02F 1/58 ZAB S ,  C12M 1/00 H ,  C12N 1/20 D
F-Term (25)：
4B029AA01 ,  4B029BB01 ,  4B029CC01 ,  4B029CC02 ,  4B029CC03 ,  4B029DA03 ,  4B065AA01X ,  4B065AC20 ,  4B065BA22 ,  4B065CA54 ,  4D038AA08 ,  4D038AB29 ,  4D038AB49 ,  4D038AB54 ,  4D038AB59 ,  4D038BA04 ,  4D038BB13 ,  4D038BB18 ,  4D038BB19 ,  4D040BB02 ,  4D040BB12 ,  4D040BB33 ,  4D040BB52 ,  4D040BB66 ,  4D040BB73
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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