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J-GLOBAL ID：200903028909840853

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
中尾 元

About 中尾 元


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002321263
Publication number (International publication number)：2004157244
Application date： Nov. 05, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：
【課題】経時での感度変化が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)溶媒として、アルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも3つの炭素原子を挟んで連結されるアルコキシアルコールを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)溶媒として、アルコキシ基とアルコール性ヒドロキシル基とが少なくとも3つの炭素を挟んで連結されるアルコキシアルコール を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (15)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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