化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999028895
Publication number (International publication number)：2000227658
Application date： Feb. 05, 1999
Publication date： Aug. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】レジスト諸性能に優れ、特に解像度及び露光余裕度が一層改良された化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】ヒドロキシスチレンの重合単位、メタクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。酸に不安定な基を持つ重合単位は、例えば、次式(V)(式中、Qは酸に不安定な基、例えば1-アルコキシアルコキシ基を表す)で示されるものであることができる。

Claim (excerpt)：

ヒドロキシスチレンの重合単位、メタクリル酸3-ヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリに可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (14)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB52 , 2H025CC20

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-079458 Applicant：富士写真フイルム株式会社
放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-282664 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-201014 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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