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J-GLOBAL ID：200903045641987637

高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

Inventor： 西 恒寛 ,  金生 剛
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001369711
Publication number (International publication number)：2002234915
Application date： Dec. 04, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：

【要約】【解決手段】 式(1)及び/又は(2)で示される繰り返し単位を含有する高分子化合物。【化1】(R1、R2はH、アルキル基、アシル基又はアルキルスルフォニル基、又はアルコキシカルボニル基又はアルコキシアルキル基、R3、R4はH、アルキル基又はアルコキシ基、又はアルコキシアルキル基を示し、R3とR4はそれらの結合する炭素原子と共に炭素数4〜8の脂環を形成してもよく、R3とR4を合わせて1個の酸素原子としてもよい。kは0又は1。)【効果】 本発明の高分子化合物をベース樹脂としたレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れている。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)及び/又は(2)で示される繰り返し単位を含有することを特徴とする重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。【化1】(式中、R1、R2は水素原子、炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アシル基又はアルキルスルフォニル基、又は炭素数2〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシカルボニル基又はアルコキシアルキル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。R3、R4は水素原子、炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はアルコキシ基、又は炭素数2〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシアルキル基を示し、構成炭素原子上の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子に置換されていてもよい。また、R3とR4はそれらの結合する炭素原子と共に炭素数4〜8の脂環を形成してもよく、R3とR4を合わせて1個の酸素原子としてもよい。kは0又は1である。)

IPC (8)：

C08F 34/02 ,  C08F220/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F232/00 ,  C08F234/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

C08F 34/02 ,  C08F220/12 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40 ,  C08F232/00 ,  C08F234/02 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (56)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025FA12 ,  4J100AK32R ,  4J100AL08S ,  4J100AM43R ,  4J100AR09Q ,  4J100AR11Q ,  4J100AR25S ,  4J100AR32P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA04S ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA10P ,  4J100BA11P ,  4J100BA13P ,  4J100BA14P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22P ,  4J100BA55P ,  4J100BA58P ,  4J100BB01P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC03S ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• ペンダント環式無水物基を含有するポリマーの製造法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-603292   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー
• 重合方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-562411   Applicant：バセルテクノロジーカンパニービー.ブイ.
• 感光性重合体、溶解抑制剤及びこれらを含む化学増幅型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-134933   Applicant：三星電子株式会社
• 開環メタセシス重合体の水素添加物、その用途及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-183991   Applicant：三井化学株式会社
• 特開平1-168705
  
• 感光性重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-254566   Applicant：三星電子株式会社