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J-GLOBAL ID:200903029015572136
照明光学系およびこれを用いた光学装置ならびにその光学装置を用いたデバイス製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
若林 忠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994318246
Publication number (International publication number):1995230057
Application date: Dec. 21, 1994
Publication date: Aug. 29, 1995
Summary:
【要約】【目的】 エネルギー損失の少ない照明光学系を提供する。【構成】 放射ビームを複数個の照明ビームに分割するプリズムユニット2と、その複数個の照明ビームの各々をプリズムユニット2による分割方向に関してフォーカスするシリンドリカルレンズ4と、シリンドリカルレンズ4からの複数個の照明ビームの夫々をマスク6上に、プリズムユニット2による分割方向と直交する方向に関してフォーカスし且つその分割方向に関してデフォーカスする凸レンズ5とを備える。マスク6上には、複数個の照明ビームの夫々が重ねられ、線状の照明領域が形成される。
Claim (excerpt):
放射ビームを複数個の照明ビームに分割する手段と、前記複数個の照明ビームを被照明面上で互いに重ねる光学系とを有し、前記光学系は実質的に直交する第1、第2の方向に関して互いに異なる焦点距離を有し、前記複数個のビームの夫々を、前記被照明面上に、前記第1の方向に関してフォーカスし且つ前記第2の方向に関してデフォーカスすることにより、前記被照明面上に線状の照明領域を形成することを特徴とする照明光学系。
IPC (3):
G02B 27/00
, B23K 26/06
, G02B 27/10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開平2-259448
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-326158
Applicant:三菱電機株式会社
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特開昭54-152299
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照明光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-287434
Applicant:旭光学工業株式会社
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レーザ加工用光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-001838
Applicant:株式会社日立製作所
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