CVD装置及びそのクリーニング方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997103211
Publication number (International publication number)：1998050685
Application date： Apr. 21, 1997
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】CVD装置のスループットの改善対策として、精度の良い高速クリーニングが可能なCVD装置及びクリーニング方法を提供すること。【解決手段】CVD装置のチャンバ11内をクリーニングするため、クリーニング用のエッチングガスとしてのHF系ガス供給システム23が設けられている。22はバルブ、12は絶縁体、13はサセプタ及び電極(下部電極14) 、14は電極(上部電極)、15は真空シール部(O-リング)、16は石英窓板、17-a,17-bは原料ガス供給管である。20は排気配管であり、21は例えば自動圧力調整弁である。

Claim (excerpt)：

酸化珪素膜を成長させるCVD装置において、HFガスを前記CVD装置に導入する手段を具備し、装置内部に付着したSiとOを主成分とする堆積物をクリーニングすることを特徴とするCVD装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 , C23C 16/44 , H01L 21/3065 , H01L 21/304 341

FI (4)：

H01L 21/31 B , C23C 16/44 J , H01L 21/304 341 Z , H01L 21/302 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

成膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-142715 Applicant：新日本製鐵株式会社
特開平1-286424
特開平3-094059

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