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J-GLOBAL ID：200903029652714637

生成物製造装置並びに微粒子の製造方法

Inventor： 中川路 藤人
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005308320
Publication number (International publication number)：2006150347
Application date： Oct. 24, 2005
Publication date： Jun. 15, 2006
Summary：

【課題】本発明は、超微粒子の粒径分布が非常に狭く、かつ、量産化が可能な反応装置を提供することを目的とする。【解決手段】流体を流路13を経由して、反応路1に流通させ、該反応路1内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路1における最小幅Tが1mm以下であり、前記反応路における最大幅Wに対して、W≧2Tを満たすことを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

流体を流路を経由して、反応路に流通させ、該反応路内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路における最小幅Tが1mm以下であり、前記反応路における最大幅Wに対して、W≧2Tを満たすことを特徴とする生成物製造装置。

IPC (1)：

B01J 19/00

FI (2)：

B01J19/00 321 ,  B01J19/00 N

F-Term (12)：

4G075AA02 ,  4G075AA27 ,  4G075AA39 ,  4G075AA61 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EE01 ,  4G075EE03 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 半導体超微粒子の製造方法及び製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-154765   Applicant：三菱化学株式会社
• 化合物半導体超微粒子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-357005   Applicant：三菱化学株式会社
• ナノ粒子製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-028790   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (5)

• マイクロチャネル装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-564031   Applicant：キネテイツク・リミテツド
• ケミカルマイクロリアクタとその製造のための方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-536162   Applicant：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• ナノ粒子製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-028790   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• マイクロ流体デバイスおよび微小ケミカルデバイス
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-340775   Applicant：財団法人川村理化学研究所
• マイクロチャネル技術を用いて過酸化水素を製造するためのプロセス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-551070   Applicant：ヴェロシス,インク.