反射防止膜、反射防止膜を含む積層体および反射防止膜の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998346706
Publication number (International publication number)：2000171604
Application date： Dec. 07, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】優れた反射防止効果や耐汚染性等を有するとともに、酸素存在下においても光硬化反応により形成可能である反射防止膜およびそれを含む積層体並びにその製造方法を提供する。【解決手段】下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜およびそれを含む積層体並びにその製造方法。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤

Claim (excerpt)：

下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化してなる反射防止膜。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤

IPC (2)：

G02B 1/11 , B32B 7/02 103

FI (2)：

G02B 1/10 A , B32B 7/02 103

F-Term (31)：

2K009AA04 , 2K009AA07 , 2K009AA15 , 2K009CC09 , 2K009CC26 , 2K009CC42 , 2K009DD02 , 2K009DD05 , 4F100AA20A , 4F100AA20H , 4F100AK17A , 4F100AK42B , 4F100AK45B , 4F100AK52A , 4F100AR00A , 4F100AR00H , 4F100AT00B , 4F100BA02 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100CA02A , 4F100CA04A , 4F100CA30A , 4F100DE01A , 4F100DE01H , 4F100GB90 , 4F100JB14A , 4F100JD15A , 4F100JD15H , 4F100JL06 , 4F100JN06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

低反射部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-341438 Applicant：日東電工株式会社, 株式会社日立製作所
光硬化型シリコン被覆組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-348574 Applicant：株式会社ラッキー
反射板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-018241 Applicant：日本合成化学工業株式会社, 三菱化学株式会社

Show all

Cited by examiner (5)

低反射部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-341438 Applicant：日東電工株式会社, 株式会社日立製作所
光硬化型シリコン被覆組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-348574 Applicant：株式会社ラッキー
反射板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-018241 Applicant：日本合成化学工業株式会社, 三菱化学株式会社

Show all

Return to Previous Page