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J-GLOBAL ID：200903029783050521

光触媒の製造方法及び光触媒

Inventor：
吉川 雅人

About 吉川 雅人

, 
大野 信吾

About 大野 信吾


Applicant, Patent owner：
株式会社ブリヂストン

About 株式会社ブリヂストン


Agent (1)： 江藤 聡明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001322313
Publication number (International publication number)：2003117404
Application date： Oct. 19, 2001
Publication date： Apr. 22, 2003
Summary：
【要約】【課題】 低温で簡易に且つ超高速で酸化チタン膜を含む光触媒を得ることができる光触媒の製造方法及び高い光触媒活性を有する光触媒を提供すること。【解決手段】 基板上に、ターゲットとしてチタン又は酸化チタンを用いて、デュアルカソード方式マグネトロンスパッタリング法でスパッタリングすることにより、酸化チタン膜を形成することを特徴とする光触媒の製造方法及びこの方法により得られる光触媒。
Claim (excerpt)：
基板上に、ターゲットとしてチタン又は酸化チタンを用いて、デュアルカソード方式マグネトロンスパッタリング法にてスパッタリングすることにより、酸化チタン膜を形成することを特徴とする光触媒の製造方法。
IPC (8)：
B01J 35/02 ,  A61L 9/00 ,  B01J 19/00 ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301 ,  C01G 23/04 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/08
FI (8)：
B01J 35/02 J ,  A61L 9/00 C ,  B01J 19/00 L ,  B01J 21/06 M ,  B01J 37/02 301 P ,  C01G 23/04 C ,  C03C 17/245 A ,  C23C 14/08 E
F-Term (68)：
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080HH01 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK01 ,  4C080LL01 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ03 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059EB04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FB03 ,  4G069FB29 ,  4G069FB40 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075CA02 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BB07 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC39 ,  4K029EA01 ,  4K029FA07 ,  4K029GA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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